代表的な光触媒材料である二酸化チタンの薄膜が電子線に対して耐性をもつことを解明 二酸化チタンの宇宙利用に道を開く

上智大学理工学部機能創造理工学科の下迫直樹（しもさこ・なおき）特別研究員、坂間弘（さかま・ひろし）教授の研究グループが発表した学術論文が、材料工学の分野において特に意義のある論文としてカナダのリサーチ会社Advances in Engineering (AIE)社のウェブサイトで紹介されました。AIE社は全工学分野における主要な国際学術誌から応用上特に優れた研究論文を取り上げて、自社のウェブサイトで紹介しています。選考委員は世界のトップ大学の学長や学部長、著名な学術誌の編集委員長などで構成されており、工学の全分野から1週間あたり20報の論文 (全出版数の0.1％以下) が選ばれます。AIEは世界の民間企業にその研究成果の概要を周知しコンサルティングやマッチング活動を行なっているため、今後の共同研究への発展も期待されます。

AIE社ウェブサイト：https://advanceseng.com/tolerance-electron-beams-tio2-film-photocatalyst/

紹介された論文

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上智大学理工学部機能創造理工学科
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