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2006年度上智大学シラバス

2006/01/06更新

◆プラズマ化学Ⅱ　－　(後)

小駒　益弘

○講義概要

半導体材料など先端材料科学分野にとって、プラズマプロセスは中心的技術となっている。プラズマ中では従来の化学的常識では起こりえない反応が、容易に起こり得ることが特徴である。本講義は、広範な分野に展開されている、プラズマ応用技術の基盤となっている放電理論、プラズマ化学、表面分析、薄膜堆積など応用プロセスを中心に講述する。

○評価方法

出席状況(50%)、授業参画(20%)、レポート(30%)

○参考書

長田義仁編著「低温プラズマ材料化学」産業図書

○他学部・他学科生の受講

否

○授業計画

1	上記内容に沿って、適時最新技術情報などトピックスを取り入れながら講義をおこなう。