2005年度上智大学シラバス
| ◆プラズマ化学Ⅰ － （前） |
小駒 益弘 |
| ○講義概要 |
| 半導体材料など先端材料化学分野にとって、今やプラズマプロセスはなくてはならない中心的技術である。プラズマ中では通常の科学的常識では起こりえない反応が容易に起こることが特徴である。本講義は広範な分野に展開されている、プラズマ応用技術の基盤となっている放電プラズマ理論、プラズマ化学、薄膜堆積などについて総括する。 |
| ○評価方法 |
| 出席状況(50%)、授業参画(10%)、レポート(40%) |
| ○参考書 |
| 長田義仁『プラズマ材料化学』産業図書、２００２年 |
| ○他学部・他学科生の受講 |
| 否 |
| ○授業計画 | ||||||||||||||||||||||||||
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By：上智大学学事部学務課
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