上智大学

ニュース 理工学部機能創造理工学科の下迫直樹特別研究員、坂間弘教授の研究グループが発表した学術論文が材料工学の分野において特に意義のある論文としてAdvances in Engineering社のウェブサイトで紹介されました

理工学部機能創造理工学科の下迫直樹特別研究員、坂間弘教授の研究グループが発表した学術論文が材料工学の分野において特に意義のある論文としてAdvances in Engineering社のウェブサイトで紹介されました

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上智大学理工学部機能創造理工学科の下迫直樹(しもさこ・なおき)特別研究員、坂間弘(さかま・ひろし)教授の研究グループが発表した学術論文が、材料工学の分野において特に意義のある論文としてカナダのリサーチ会社Advances in Engineering (AIE)社のウェブサイトで紹介されました。AIE社は全工学分野における主要な国際学術誌から応用上特に優れた研究論文を取り上げて、自社のウェブサイトで紹介しています。選考委員は世界のトップ大学の学長や学部長、著名な学術誌の編集委員長などで構成されており、工学の全分野から1週間あたり20報の論文 (全出版数の0.1%以下) が選ばれます。AIEは世界の民間企業にその研究成果の概要を周知しコンサルティングやマッチング活動を行なっているため、今後の共同研究への発展も期待されます。

AIE社ウェブサイト:https://advanceseng.com/tolerance-electron-beams-tio2-film-photocatalyst/ 
 
紹介された論文

論文タイトル Tolerance to electron beams of TiO2 film photocatalyst
掲載雑誌など Thin Solid Films 686 (2019) 137421/1-137421/6.

本リリース内容に関するお問合せ先

上智大学理工学部機能創造理工学科
坂間 弘 (TEL : 03-3238-3435 e-Mail: h-sakama[at]sophia.ac.jp)([at]を@に変換)